4M-08
複数 XPS スペクトルにおけるスペクトルごとのピーク強度変化を考慮した共通ピーク構造のベイズ推定
○丸山颯斗(電通大),村上 諒,篠塚寛志,永田賢二,吉川英樹(物材研),庄野 逸(電通大)
X 線光電子分光法 (X-ray Photoelectron Spectroscopy: XPS) は,物質表面の電子状態から組成や結合状態を知る計測手法である.計測スペクトルは電子軌道固有のピークの重ね合わせになるため,ピーク分離をして解析を行う.材料組成の変化を捉える XPS マッピングでは,多数のスペクトルを個別に解析すると同一の結合状態でも計測ノイズの影響でピーク位置にばらつきが生じ,統一的な解釈が困難となる.そこで本研究は共通するピーク構造を仮定し,スペクトルごとの組成変化に応じてピーク強度が変化するという枠組みでベイズ推定を行った.実験では模擬データを用い,本手法の有効性を評価した.