情報処理学会 第82回全国大会 会期:2020年3月5日~7日 会場:金沢工業大学 扇が丘キャンパス 情報処理学会 第82回全国大会 会期:2020年3月5日~7日 会場:金沢工業大学 扇が丘キャンパス

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デジタルサイネージを活用した歩きスマホの抑制方策に関する一考察
○上月貴裕,飯島泰裕(青学大)
歩きスマホに関する事故が増えており、死亡事故をも引き起こしている.しかし、現状では歩きスマホを抑制する明確な手段がない.これをデジタルサイネージの活用により、抑制する方策について研究した.
階段や電車のホームでの歩きスマホは危険だと感じているが、学校内での歩きスマホの危険性は軽視されていた.また、各自の向かう教室の情報が、学校内では必要とされていた.これらの結果を踏まえて、各自の向かう教室の情報をデジタルサイネージに掲載する実証実験を行ったところ、歩きスマホを抑制することが可能となった.