情報処理学会 第82回全国大会 会期:2020年3月5日~7日 会場:金沢工業大学 扇が丘キャンパス 情報処理学会 第82回全国大会 会期:2020年3月5日~7日 会場:金沢工業大学 扇が丘キャンパス

6J-09
外乱のある環境での分散深層学習の性能評価
○山梨祥平,大島聡史,永井 亨,片桐孝洋(名大)
 現状,深層学習で十分な認識精度を得るためには,大量のデータを用いた訓練処理を長時間にわたって行う必要がある.そのため学習を高速化するために,GPUクラウドなどを用いて複数のGPUに計算を分散させる分散深層学習が盛んに行われている.しかし,クラウドには様々な要因によって外乱が発生することで不均質な環境となる問題がある.そこで今回は,分散深層学習の学習時間に外乱がもたらす影響について評価を行った.