情報処理学会 第82回全国大会 会期:2020年3月5日~7日 会場:金沢工業大学 扇が丘キャンパス 情報処理学会 第82回全国大会 会期:2020年3月5日~7日 会場:金沢工業大学 扇が丘キャンパス

2Q-04
化粧品パフの凹領域の検出手法の検討
○西山翔大,澤野弘明(愛知工大)
工場出荷前の化粧品パフ(以下,パフ)の凹欠陥検査には,大型の装置が使われており,中小企業では,設備導入が容易ではない.そこで,簡易的に撮影が可能なiPod touchを使用したパフの凹欠陥の検出手法を提案する.パフ表面上に凹領域が存在する場合,平坦な領域と比べ,彩度が高くなる.提案手法では,パフ表面上の彩度の平均値と凹領域の彩度を比較して,閾値処理によって欠陥部を検出する.本手法を用いて,サンプル画像10枚について欠陥検出実験を行い,正検出率は80%,未検出率と過検出率はそれぞれ10%であった.過検出はパフにおける淵領域で見られ,未検出はパフ表面上に存在する気泡程度の小領域で確認された.